北京大学彭海琳团队原位解析光刻胶微观行为并实现晶圆厂兼容的高分辨光刻 - 芯片 - 光通信Pro

北京大学彭海琳团队原位解析光刻胶微观行为并实现晶圆厂兼容的高分辨光刻

4 小时前

自半导体产业兴起，光刻技术一直至关重要，是推动集成电路芯片制程工艺不断微缩的核心驱动力之一。

热文阅读

【回应】高通回应涉嫌违反反垄断法；

【竣工】无锡10亿元总部项目竣工在望；

中国移动发布《云智算光互连发展报告》

【一周IC快报】美国将16家中企列入实体清单；中国对稀土/锂电池/超硬材料限制出口；高通被立案调查；微软上海再裁员，补偿N+4

突发！荷兰政府冻结中资半导体企业资产，CEO职务遭暂停；解读纳芯微“隔离 +”：打造全生态产品矩阵，守护高低压安全边界

AI泡沫将破裂？OpenAI、英伟达与AMD股权换订单模式能成功吗？

简体中文 English